近日臺(tái)積電在季度財(cái)務(wù)會(huì)議上宣布，將于2016年給大家?guī)?0nm工藝，再往后的2017年則做到7nm。

根據(jù)臺(tái)積電的說法，這兩種新工藝都進(jìn)展順利，而且這兩種新工藝都會(huì)像16nm一樣集成FinFET（FinFET稱為鰭式場(chǎng)效晶體管是一種新的互補(bǔ)式金氧半導(dǎo)體(CMOS)晶體管）立體晶體管技術(shù)。并且臺(tái)積電已經(jīng)開始與客戶合作開發(fā)10nm芯片的設(shè)計(jì)，將在今年第四季度完成驗(yàn)證，明年底即可量產(chǎn)。

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