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叫板臺積電,三星計劃2016年投產(chǎn)10nm工藝

本文作者: 程弢 2015-05-22 17:06
導(dǎo)語:14nm剛來,又要迎接10nm了...

叫板臺積電,三星計劃2016年投產(chǎn)10nm工藝

三星和臺積電的爭奪從來就沒停止。4月份,臺積電曾表示希望到2016年其14nm和16nm工藝能達(dá)到市場占有率最高的位置,并且高調(diào)宣布到2016年底10nm工藝芯片將投產(chǎn)。

現(xiàn)在,三星也公布了其FinFET工藝路線圖,正式宣布和臺積電一樣,將在明年底量產(chǎn)10nm FinFET工藝。與此同時,三星還表示,到2016年底,韓國兩家工廠、德州奧斯丁工廠和位于紐約的Globalfoundries工廠都將投入其14nm工藝。

由于近兩年半導(dǎo)體工廠的業(yè)務(wù)有了巨大的變革,三星方面也希望通過14nm能提升競爭力。

目前三星已經(jīng)在Galaxy6旗艦機(jī)上使用了14nm工藝,不過三星的野心明顯不僅限于此,他們希望能夠拿下下一代iPhone的訂單。

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