無需美國許可！光刻機(jī)巨頭 ASML 給中國開綠燈，DUV 進(jìn)口無需授權(quán)，但 EUV 受限

本文作者：劉琳

2020-10-16 17:44

導(dǎo)語：不懼美國禁令，光刻機(jī)大佬伸出援手。

光刻機(jī)，在整個芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié)，是最最最核心的設(shè)備，技術(shù)難度極高。

在全球光刻機(jī)市場，日本的尼康、佳能，和荷蘭的 ASML，就占據(jù)了市場 90% 以上份額。而最高級的 EUV（極紫外光）技術(shù)，則更是只有荷蘭的 ASML 一家可以掌握。

現(xiàn)在，一個難得的好消息是，光刻機(jī)可以進(jìn)口了，并且美國無需限制。

無需美國許可！光刻機(jī)巨頭 ASML 給中國開綠燈，DUV 進(jìn)口無需授權(quán)，但 EUV 受限

而這個底氣是半導(dǎo)體巨頭、全球光刻機(jī)領(lǐng)頭企業(yè)荷蘭的阿斯麥爾(ASML)給中國的。

10 月 14 日，ASML 首席財務(wù)官羅杰·達(dá)森（Roger Dassen），對向中國出口光刻機(jī)的問題作出了表態(tài)。他表示：

無需美國許可！光刻機(jī)巨頭 ASML 給中國開綠燈，DUV 進(jìn)口無需授權(quán)，但 EUV 受限

ASML 可以從荷蘭向中國出口 DUV（深紫外）光刻機(jī)，無需美國許可。

這無疑給了中國半導(dǎo)體行業(yè)新的希望。

但別高興太早。

ASML 方面也提到：

無需美國許可！光刻機(jī)巨頭 ASML 給中國開綠燈，DUV 進(jìn)口無需授權(quán)，但 EUV 受限

如果相關(guān)系統(tǒng)或零件是從美國出口的，那這些設(shè)備仍然需要得到美方的許可。

此外，從 ASML 的表態(tài)中也可得知，除了允許進(jìn)口 DUV 光刻機(jī)外，并未提到更先進(jìn)的 EUV（極紫外）光刻機(jī)。

盡管如此，這對于中國半導(dǎo)體行業(yè)來說都是一件極大的幸事了。

ASML 為什么不懼美國禁令？

ASML 為什么有底氣進(jìn)口 DUV 光刻機(jī)給中國？

Roger Dassen 解釋說：

“如果要解釋一下美國的規(guī)定對 ASML 有什么影響的話，對于的中國客戶，我們還是可以直接從荷蘭向他們出口 DUV 光刻機(jī)，無需任何出口許可?！?/p>

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也就是說，美國僅僅是限制了美國不能給中國出口芯片、光刻機(jī)等，但并沒有限制其他國家對中國進(jìn)口，荷蘭并不在美國的禁令范圍內(nèi)。

但如果相關(guān)系統(tǒng)或零件是從美國出口的，這就另當(dāng)別論了。

同時他也表示 ASML 將盡最大努力，盡可能為所有客戶繼續(xù)提供服務(wù)和支持。

值得注意的是，當(dāng)天也是 ASML 發(fā)布新一季度財報的日子，我們從其財報中也看到了 ASML 出口光刻機(jī)的一些原因。

ASML 第三季度財報顯示，ASML 當(dāng)季總共銷售 60 部光刻系統(tǒng)，凈銷售額為 40 億歐元，凈收入 11 億歐元，毛利率達(dá)到了 47.5%，營收攀升至 39.58 億歐元，其中，中國占據(jù) 21% 的份額。

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前九個月銷售業(yè)績高達(dá) 97.24 億歐元（約合人民幣770億元），同比大增近 25%。其中，來自高端 EUV 光刻機(jī)的收入占比達(dá)到了總收入的 66％。

此外，ASML 還十分看好中國市場。海關(guān)總署數(shù)據(jù)顯示，今年 1-8 月，我國累計進(jìn)口了 3334.6 億美元的集成電路，同比大增 22.5%。

據(jù)南方新聞網(wǎng)報道，在 9 月 17 日的中國集成電路制造年會上，ASML 全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波透露，截至當(dāng)前，中國已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了 700 多臺 ASML 光刻機(jī)的裝機(jī)，幾乎所有芯片生產(chǎn)商都購買過該公司的服務(wù)。

中國對于 ASML 來說實(shí)在是一個大市場。

而 ASML 也一直對中國市場有擴(kuò)張野心。

在第 23 屆中國集成電路制造年會(CICD 2020)暨廣東集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇上，ASML 全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波就表示：

ASML 在中國大陸成立第一個辦公室迄今已有 20 年，從第一臺光刻機(jī)開始，就是中國半導(dǎo)體行業(yè)的親歷者、見證者、和推動者。未來，ASML 還將持續(xù)投入、擴(kuò)大布局、培養(yǎng)人才，攜手行業(yè)伙伴，和中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)共同發(fā)展。

此外，資料顯示，2000 年，ASML 在中國天津正式成立大陸地區(qū)的第一個辦公室，迄今為止在中國大陸12 個城市有辦事處或分支機(jī)構(gòu)，分別為天津、上海、北京、無錫、武漢、西安、大連、南京、廈門（晉江）、合肥、深圳、廣州。

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可以說從一線城市到二三線城市都有 ASML 的布局。在中國受美方的打壓下，ASML 卻在加速中國市場的布局。

這又是一個值得思考的問題。

網(wǎng)友：進(jìn)口 DUV 光刻機(jī)沒用，真正卡脖子的是 EUV

聽聞這一消息，網(wǎng)友也紛紛表態(tài)。

在他們看來，中國真正需要的是 EUV 光刻機(jī)，ASML 這一做法并不能解燃眉之急，當(dāng)務(wù)之急還是要自力更生。

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為什么這么說呢？

我們先來看下 DUV 和 EUV 之間的區(qū)別。

無需美國許可！光刻機(jī)巨頭 ASML 給中國開綠燈，DUV 進(jìn)口無需授權(quán)，但 EUV 受限

目前的光刻機(jī)主要分為 EUV 光刻機(jī)和 DUV 光刻機(jī)。

DUV 光刻機(jī)，分為干分式與液浸式兩種。其中，液浸式于 ASML 手中誕生，其波長雖然有 193nm，但等效為134nm，經(jīng)過多重曝光后，液浸式光刻機(jī)也能夠達(dá)到 7nm 工藝。但是，每多一次曝光都會使得制造成本大大提升，而且良品率也難以控制。

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而 EUV 光刻機(jī)采用13.5nm波長的光源，是突破 10nm 芯片制程節(jié)點(diǎn)必不可少的工具。也就是說，就算DUV（深紫外線）光刻機(jī)能從尼康、佳能那里找到替代，但如果沒有 ASML 的 EUV 光刻機(jī)，芯片巨頭臺積電、三星、英特爾的 5nm 產(chǎn)線就無法投產(chǎn)。

EUV 的重要性可想而知。

事實(shí)上，早在今年 3 月，中芯國際就向 ASML 購買了一臺大型光刻機(jī)，外界傳言為 EUV，但中芯國際也在此后證實(shí)并非外界傳言的極紫外光刻機(jī)。

這也進(jìn)一步證明了 EUV 的重要性。

國內(nèi)光刻機(jī)困境

那么，國內(nèi)光刻機(jī)的發(fā)展現(xiàn)狀如何呢？

根據(jù)百度百科的解釋，一臺光刻機(jī)由上萬個部件組成，有人形容稱這是一種集合了數(shù)學(xué)、光學(xué)、流體力學(xué)、高分子物理與化學(xué)、表面物理與化學(xué)、精密儀器、機(jī)械、自動化、軟件、圖像識別領(lǐng)域頂尖技術(shù)的產(chǎn)物。

而一臺光刻機(jī)的售價從數(shù)千萬美元高至過億美元，可見光刻機(jī)的重要性。

在全球范圍內(nèi)，光刻機(jī)市場幾乎被 3 家廠商瓜分：荷蘭的阿斯麥（ASML）、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。

在這 3 家中，ASML 又是當(dāng)之無愧的一哥。據(jù)中銀國際報告，阿斯麥全球市場市占率高達(dá) 89%，其余兩家的份額分別是 8% 和 3%，加起來僅有 11%。在 EUV 光刻機(jī)市場中，ASML 的市占率則是100%。

而中國對于光刻機(jī)的制造幾乎還在起步階段。

目前，中國芯片制造方面頂尖的中芯國際只有 28 納米的生產(chǎn)工藝，14 納米工藝才剛剛開始量產(chǎn)，且中國芯片制造只能占到世界 7.3%的份額。

但近年來，國家加大了對半導(dǎo)體行業(yè)的投入。

2019 年 4 月，武漢光電國家研究中心甘棕松團(tuán)隊，采用二束激光，在自研的光刻膠上，突破光束衍射極限的限制，并使用遠(yuǎn)場光學(xué)的辦法，光刻出最小 9nm 線寬的線段。

2020 年初，中科院對外宣稱已經(jīng)攻克了 2nm 工藝的難題，相關(guān)研究成果已經(jīng)發(fā)布到國際微電子器件領(lǐng)域的期刊當(dāng)中。

5 月 19 日，上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司稱，其自研的高亮度 LED 步進(jìn)投影光刻機(jī)，是中國首臺面向 6 英寸以下中小基底先進(jìn)光刻應(yīng)用領(lǐng)域的光刻機(jī)產(chǎn)品，已從 1200 多個申報項目中成功突圍，入選“上海設(shè)計 100+”。

10 月15 日，南京集成電路產(chǎn)業(yè)服務(wù)中心副總經(jīng)理呂會軍向媒體證實(shí)中國將建立一所南京集成電路大學(xué)，專門培養(yǎng)實(shí)踐型芯片研發(fā)人才，以加速芯片的國產(chǎn)化。

誠然，中國在光刻機(jī)這條路上還有很長的路要走，但在經(jīng)歷了卡脖子的困境后，相信中國企業(yè)已經(jīng)意識到自主研發(fā)的重要性。而美國長期的封鎖和打壓只會激發(fā)中國放棄僥幸，集中力量，讓核心科技硬起來。

同時，對于國內(nèi)的光刻企業(yè)還要給予耐心，不能急功近利。

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參考資料：

【1】https://www.iamnotresponsible.com/2020/10/15/asml-no-u-s-license-is-required-to-export-duv-lithography-machine-from-the-netherlands-to-china/

【2】https://new.qq.com/omn/20201015/20201015A0IJI900.html

【3】https://www.fool.com/earnings/call-transcripts/2020/10/14/asml-holding-nv-asml-q3-2020-earnings-call-transcr/

【4】https://www.huxiu.com/article/364216.html

【5】https://www.toutiao.com/a6873410848900153869/

【6】https://www.zhihu.com/question/325314594/answer/695307831

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